ナード研究所｜設備概要
| 機器名 | メーカー名 | 備考 |
|---|---|---|
| 高薬理活性化合物取扱設備 | OEL:0.1〜1μg/m3 | |
| HPLC | 島津製作所、日立製作所 | 複数台 |
| GC | 島津製作所 | 複数台 |
| FT-NMR | 日本電子 | 400MHz×4台 |
| GC-MS | 島津製作所 | GCMS-QP2010plus |
| GC-MS | 島津製作所 | GCMS-QP2020NX |
| LC-MS（四重極） | Waters、島津製作所 | UPLC対応（Watres）、APCI（島津） |
| MALDI-TOF-MS | 島津製作所 | AXIMA |
| GPC分取装置 | 日本分析工業 | LC-908、LC-9130NEXT |
| HPLC分取装置 | GLサイエンス、島津製作所 | |
| 中圧分取装置 | MORITEX、山善 | |
| 赤外分光光度計（FT-IR） | Thermo | iS10 |
| 紫外分光光度計（UV） | 島津製作所 | UV-1800等 |
| 微量分光光度計 | DeNovix | DS-11+ |
| ICP-OES | アジレントテクノロジー | 710ICP-OES |
| ICP-MS | Perkin Elmer | |
| グローブボックス | UNICO | 6台 |
| 接触角計 | FACE | |
| 熱分析装置 | NETSCH | DSC-3100SA |
| 熱分析装置 | マックサイエンス | TG-DTA200SA |
| 光反応装置 | 英光社 | 高圧・低圧水銀灯 |
| オゾン発生装置 | 住友精密 | 約3.5g/時間 |
| マイクロ波反応装置 | 四国計測 | |
| 超音波発振装置 | SMT UH-150 | |
| 高真空精密蒸留装置 | 自社組立 | 30段以上、1torr以上 |
| 昇華装置 | 自社製 | |
| 凍結乾燥機 | 東京理化機械 | |
| オートクレーブ | 耐圧硝子工業 | 50mL〜3.0Lまで複数台 |
| 遠心分離機 | KUBOTA | 7000 6200 |
| 蛍光分光光度計 | 島津製作所 | RF-6000 |
| CHN元素分析計 | パーキンエルマー | 2400II |
| カールフィッシャー水分計（容量滴定方式） | 京都電子工業 | MKH-700、MKV-710 |
| 水分気化装置 | 京都電子工業 | ADP-611 |
| マス・トリガー分取装置 | Waters、島津製作所 | |
| 旋光度計 | 日本分光 | |
| GPC分析装置 | 東ソー、Visco Tek、島津製作所 | 複数台 |
| GPC（光散乱） | ビスコテック | |
| 粉末X線回析装置 | PANalytical | X'pert3powder |
| FE-SEM | 日本電子 | TSM-7610F |
| DLS | Malvern | ゼータサイザーナノZS |
| 引っ張り試験機 | 島津製作所 | AUTOGRAPH |
| レーザー回析式粒度分布測定装置 | 島津製作所 | SALD-2300 |
| 粒度分布測定装置 | 堀場製作所 | CAPA-700 |
| 色彩色差計 | ミノルタ | |
| 表面構造測定装置 | 東京精密 | |
| 衝撃試験機（塗料用） | 太佑機材 | |
| 描画試験機（塗料用） | 太佑機材 | |
| 屈曲試験機（塗料用） | 太佑機材 | |
| グロスメーター | MURAKAMI COLOR | |
| 接着力試験機 | 山本扛重機 | |
| UV照射装置 | 東芝 | |
| 電気炉 | イケダ科学、アズワンなど | 〜1500℃ |
| ホモミキサー | 特殊機化工業 | |
| ホモジナイザー | 日本精機製作所 | |
| 超音波ホモジナイザー | SONICS | VCX-500 |
| 遊星ボールミル | フリッチュ | P-7、premium line P-7 |
| SCミル | 日本コークス | SC-16 |
| スピンコーター | ミカサ | |
| ノンバブリングニーダー | 日本精機製作所 | NBK-1 |
| 卓上型ニーダー | 入江商会 | PNV-1H型 |
| マイクロスコープ | キーエンス | VHX-900 |
| 脱泡機 | シンキー | 泡とり練太郎ARV-310 |
| 比表面積計 | カンタクローム | Monosorb |
| ディップコーター | あすみ技研 | N100 |
| B型粘度計 | 東機産業 | TVB-15 |
| E型粘度計 | 東機産業 | TV-22、TV-25 |
ナード研究所主要設備 2018年10月現在
ナードケミカルズ｜設備概要
反応設備（d2G4適合）
| 反応器（SUS） | 反応器（GL） |
|---|---|
|
|
ナードケミカルズ主要設備 2024年1月現在
第一クリーンルーム（クラス10,000）
| 精製水設備×1 | 濾過機（GL） | ジェット粉砕機 |
| GL200L反応器×1 | GL100L反応器×1 | 真空乾燥機SUS棚段式（3m2） |
ナードケミカルズ主要設備 2018年12月現在
第一クリーンルーム 
500L GL釜（耐圧0.5MPa） 
500LSUS釜（耐圧0.88MPa）
第二クリーンルーム（クラス100,000）
| 広さ 16m2 少量製造及び少量精製用設備 |
ナードケミカルズ主要設備 2018年12月現在
付帯設備
| 遠心式薄膜真空蒸発装置 | （蒸発能力：200kg／h）×1 |
|---|---|
| 移動式撹拌機 | 8 |
| 熱媒油加熱冷却装置 | MAX250℃×30kw |
| 蒸気ボイラー | （500kg／h）×2 |
| 冷凍機（－20℃ブライン） | 90,000kcal/h、69,000kcal/h、50,000kcal/ｈ |
| 濾過機 | 遠心分離機 30in：（SUS）×2、（樹脂ライニング）×1 遠心分離機 30in：移動式アフロンライニング×1 PP製複式フイルタープレス（3.3m2）×2、（1.0m2）×1、（7.2m2）×1 加圧濾過機 （SUS）×2、（GL）×2 ヌッチェ式減圧濾過機（SUS）×13、（PP）×8 |
| 真空ポンプ | （油回転式）×9、（水封式）×6、メカニカルブースタ×7 |
| 乾燥機 | 真空乾燥機（GL：コニカル式）内容積 500L×1 真空乾燥機（SUS：棚段式）内容積 1.8m2〜5m2×6 真空乾燥機（SUS：コニカル式）内容積 700L×1、100L×1 温風乾燥機（SUS：棚段式）内容積 1,300L×1 |
| 低温冷凍庫 | -25℃ 310L×1、500L×1、-35℃ 360L×5、420L×1、 -60℃ 470L×2、-80℃ 180L×1 |
| 保冷庫 | 16.5m2×1 |
| ロータリーエバポレーター | 10L×1、100L×4 |
| クロマト用カラム | （PYREX）100L×1 （SUS）50L×1、100L×2、200L×2 260L（ショートカラム）×1、200L（ショートカラム）×1 |
| イオン交換水設備 | 2 |
| 粉砕機 | サンプルミル×1、カッターミル×1 |
ナードケミカルズ主要設備 2018年12月現在
400L SUS 反応釜 
100Lロータリーエバポレーター 
遠心式薄膜真空蒸発装置 
真空乾燥機（SUS棚段式） 
真空乾燥機（SUSコニカル式） 
フィルタープレス
主要分析機器
| ガスクロマトグラフィー（FID） | 液体クロマトグラフィー（UV、PDA、RI、GPC） | カールフィッシャー水分計（容量式、電量式） |
| 赤外分光光度計 | 分光光度計 | 旋光計 |
| 自動滴定装置 | 粒度分布測定装置 | 恒温恒湿器 |
| 液体クロマトグラフ質量計（LC/MS） | 光安定性試験器 |
ナードケミカルズ主要設備 2018年12月現在
工程管理分析室 
技術室 
品質管理室
